Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond
Гилей Ван
2019
· 115 pp.
· Англійська
Середня: 0.00
| Автор | Гилей Ван |
|---|---|
| Видавництво | Springer |
| Перекладачі | |
| Категорії: | Наука, Навчальна і довідкова |
| ISBN | 9789811500459 |
| Рік видання | 2019 |
| Мова | Англійська |
| Кількість сторінок | 115 |
0
Користувачів прочитали
0
Користувачів планують прочитати
0
Оцінок
0
Відгуків написано
Користувачів прочитали
0
Користувачів планують прочитати
0
Оцінок
0
Відгуків написано
0
